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美國Plasma Etch 公司-等離子去膠清洗機；等離子去膠清洗機通過等離子體化學反應方法去除光刻膠底膜和殘留有機物。
美國Plasma Etch 公司公司成立于1980年，是為許多客戶提供等離子體處理解決方案的專家，并為客戶提供專業定制的等離子系統。
Plasma Etch公司開發了多個解決方案，用于等離子清洗，刻蝕，反應離子刻蝕（RIE）系統，等離子體處理的表面改性，和所有其他方面。
型號1：PE50 用于4英寸及以下的晶圓。
型號2：PE-50XL-HF 用于6英寸及以下的晶圓。
型號3：PE100 用于8英寸及以下的晶圓。
型號4：PE200 用于12英寸及以下的晶圓。
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用途 |
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光子集成電路中的光電器件lift-off電極工藝沉積金屬之前，電極窗口中殘留的光刻膠底膜會導致盲元產生，封裝時電極表面殘留的有機物會影響器件的電氣連接效果。需要使用等離子體去膠機干法去除殘留有機物和光刻膠，保證電氣連接質量。 |
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原理 |
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通過等離子體化學反應方法去除光刻膠底膜和殘留有機物； |
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特點 |
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1. 去除效率高、工藝溫度低、可重復性好等優點； 2. 工藝過程全程軟件控制；工藝參數易控制；操作簡便，一般操作人員在極短的時間內就可以熟練操作，甚至只需要幾分鐘就可掌握； 3. 占地體積小，可放置在任何實驗臺上； 4. 性能可靠“肚量”寬大。真空腔體采用T6061航空鋁合金材料無縫焊接，真空腔體近似尺寸；10英寸直徑×11英寸深度，樣品放置空間大； 5. 控制系統可選擇了PLC微電腦控制和更精準的全數字電腦控制，以滿足不同用戶的要求； 6. 安全保障：在小型設備中，唯一引入一鍵急停保護按鈕，可以快速終止實驗，以最小程度降低因操作失誤而造成對樣品的損害； 7. 能實現對復雜結構的大尺寸晶圓清洗處理，無環境污染。 |
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型號 |
Plasma Wand（手持式） |
型號 |
Atmospheric Plasma System（Inline式） |
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特點 |
Plasma Wand是一種手持小型等離子體清潔設備，無需外部氣體連接，只需插入即可直接開始清潔，非常適合研究所、實驗室、大學的小型生產設備或任何需要小型手持式等離子解決方案的人員。 |
特點 |
功率高，清潔能力強，安裝靈活，便于集成到各種系統中。 |
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應用 |
焊接前大面積物體清潔和表面改性，可用于清潔塑料，橡膠和非導電材料。 |
應用 |
使用噴嘴式發電機激活材料表面用于粘合或印刷。因其具有完全的可擴展性，與機械設備或自動裝配線相兼容，適用于Inline傳送系統和工業生產設備。 |
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重量 |
170g |
尺寸 |
19"W×7"H×17"D |
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發電機 |
功率：30W，集成電源 |
發電機 |
功率：1000W |
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Plasma溫度 |
＜50℃ |
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處理距離 |
5-10mm |
等離子體處理高度 |
10-25mm |
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處理寬度 |
5-20mm |
等離子體處理寬度 |
15-25mm |
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供氣 |
無 |
供氣 |
與多種輸入氣體兼容：N2， N2/H2， Ar/O2，Ar/H2， 壓縮空氣，配備長達十米氣體管線，多種類型噴頭可適用不同應用 |
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壓力測量 |
熱電偶真空計 0-1Torr |
控制系統 |
每個等離子頭可通過具有完整記錄和診斷功能PC進行控制；也可通過PLC控制多個等離子頭單一控制,也可手動控制 |
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電源要求 |
110-240V/50-60Hz 15V DC，30W |
電源 |
240V/50-60Hz@15A |
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型號 |
PE-50 |
型號 |
PE-100 |
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特點 |
性價比高的小型設備，可同時使用兩種氣體，優秀的研究級等離子清潔和表面改性能力。 |
特點 |
全自動化，可用于生產車間，能進行反應離子刻蝕、等離子清洗/刻蝕等，體積小。 |
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應用 |
適用于研究所、實驗室、大學等任何需要小規模、經濟有效的等離子處理解決方案的行業。 |
應用 |
適用于制造工廠、醫療機構、大學、研究機構或任何需要經濟有效的工業生產級等離子體處理解決方案的公司。 |
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外部尺寸 |
14"W×14.5"H×18"D |
外部尺寸 |
17"W×28"H×30"D |
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腔體材料 |
6061-T6鋁合金無縫焊接真空腔 |
腔體材料 |
6061-T6鋁合金無縫焊接真空腔體 |
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腔體 |
5.5"W×3.5"H×7"D |
腔體 |
12"W×14.5"H×12"D |
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電極尺寸 |
4.5"W×6"D，間隙2.5" |
電極尺寸 |
三層9"W×13"D，間隙3" |
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發電機 |
功率400W（連續可調，自動匹配網絡）；頻率50KHz |
發電機 |
功率300W（連續可調，自動匹配網絡）；頻率100KHz |
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供氣 |
兩個裝有0-25cc/min氣體流量控制器的氣體通道，配有精密針型閥 |
供氣 |
兩個裝有0-50sccm MFC（質量流量控制器）氣體通道 |
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真空測量 |
1-2000 |
真空測量 |
1-2000 mTorr |
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真空泵 |
5 CFM 2級直驅真空油泵 |
真空泵 |
8 CFM 2級直驅真空油泵（帶油霧凝聚過濾器） |
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電源 |
120VAC/60Hz@15A，220VAC/50Hz@14A |
電源 |
120VAC/60Hz@15A，220VAC/50Hz@14A |
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控制系統 |
PLC微電腦控制系統，數字字母顯示器帶鍵盤輸入，可存儲一個自動工藝流程。 |
控制系統 |
裝有等離子蝕刻軟件的一臺筆記本電腦，可全自動系統操作，調整多種參數，可保存和編輯多個方案及工序流程等 |
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可選功能 |
數字質量流量控制器；更高功率/頻率的射頻電源；PC控制系統，全自動系統操作、可存儲多個工藝流程、記錄數據/趨勢/事件/警報；真空干泵：更好控制工藝腔室壓力；循環氣體凈化系統/空氣干燥器；氣路數量可增加；燈塔：便于觀察等離子體處理程序的步驟 |
可選功能 |
腔室尺寸、電極數量/尺寸、射頻電源功率/頻率、真空泵抽速可升級；可實現反應離子刻蝕（RIE）；靜電屏蔽：通過消除材料邊界的過量蝕刻，顯著增加工藝的均勻性；PC-based控制系統，可全自動系統操作，具備存儲多個方案/工序流程、數據/事件警報記錄、趨勢分析等高級功能；控溫系統：在腔室中維持一定的溫度，提高均勻性，滿足特定需求的應用；腔室壓力自動控制系統；循環氣體凈化系統/空氣干燥器：確保徹底清除污染物，提高均勻性和延長使用壽命；真空泵除油霧器：從真空泵排出氣體中過濾并除去油霧；真空泵油過濾器：將真空泵用油過濾到3μm級，增加油和真空泵的使用壽命；附加數字質量流量控制器：對工藝氣體進行全自動操作和監控；多氣路矩陣：軟件可配置，允許多達5個過程氣體輸入，可隨時選擇3個；尾氣處理系統；氣體流量不足報警；燈塔：便于觀察等離子體處理程序的步驟 |
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升級版 |
PE-50XL：腔體7.5"W×8.75"D×3.5"H；PE-50 Venus：軟件升級，并可精確控制氣體流量 |
同系列 |
PE-200腔體17"W×17"D×14"H，Generator功率/頻率、真空泵抽速、MFC精度等升級；PE-100（RIE）/PE-200（RIE）參數相似 |
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型號 |
BT-1（大容量） |
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特點 |
工業級設備，全自動化，工藝腔室容量大，加工區面積大。 |
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應用 |
能進行等離子清洗，等離子蝕刻，反應離子蝕刻（RIE）等的完整的工業級等離子處理解決方案，適合半導體、電子、太陽能、PCB（印刷電路板）和工業制造。 |
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腔體材料 |
6061-T6鋁合金無縫焊接真空腔體 |
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外部尺寸 |
70"W×36"D×32"H |
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腔體 |
25"W×25"D×22"H |
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電極尺寸 |
五層20"W×21"D，間隙3" |
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發電機 |
功率：600W（連續可調，自動匹配網絡）；頻率：13.56MHz |
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供氣 |
一個0-200cc的MFC |
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真空測量 |
1-2000 mTorr |
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真空泵 |
29 CFM 2級直驅真空油泵（3μm油霧過濾系統） |
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電源 |
120/208 VAC，50/60Hz，三相五線，30A |
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控制系統 |
彩色PLC觸摸屏控制界面，可存儲多達20個兩步工藝 |
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可選功能 |
腔室尺寸、電極數量、射頻電源、氣路可升級；更高功率/頻率的射頻電源；可實現反應離子刻蝕（RIE）；腔室尺寸、電極數量/尺寸可定制；射頻電源功率/頻率、真空泵抽速可升級；PC-based控制系統，可全自動系統操作，具備存儲多方案/工序流程排序、數據/事件/警報記錄、趨勢分析等高級功能；靜電屏蔽：通過消除材料邊界的過量蝕刻，顯著增加工藝的均勻性；控溫系統：在腔室中維持一定的溫度，提高均勻性，滿足特定需求的應用；干式/油驅真空泵和鼓風機增壓泵等各種真空泵：可以更好地控制工藝腔室壓力；干式真空泵冷卻系統：干泵必配；循環氣體凈化系統/空氣干燥器：確保徹底清除污染物，提高均勻性和延長使用壽命；真空泵除油霧器：從真空泵排出氣體中過濾并除去油霧；真空泵油過濾器：將真空泵用油過濾到3微米級，增加油和真空泵的使用壽命；附加數字質量流量控制器：對工藝氣體進行全自動操作和監控；多氣路矩陣：軟件可配置，允許多達5個過程氣體輸入，可隨時選擇3個；腔室壓力自動控制系統；尾氣處理系統；氣體流量不足報警；燈塔：便于觀察等離子體處理程序的步驟。 |
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同系列 |
BT-Tumbler：水平旋轉式，對散裝小部件進行均勻3D處理； |
