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    IBE離子束刻蝕系統

    北京特博獨家代理美國高端IBE離子束刻蝕系統--功能強大--超高性價比--科研用戶首選。


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    商品描述

    北京特博獨家代理美國高端IBE離子束刻蝕系統--功能強大--超高性價比--科研用戶首選。



    主要用途

    1. Ion Beam Etching to fabricate micro-nanometer features in any material (metals, insulators, organics,   composites, multilayers).

    2. Ion Beam Surface Modification to create nanostructures, textures and  smoothness.

    3. Physical Vapor Deposition to build thin films and stacks by evaporation, sputtering and reactive growth.

    4. Ion Beam Sputter Deposition confronts the need for upper tier thin film results, when achieving the highest quality properties and precision control is justified.

    優勢

    Multifunctional Process Tool combines etching and deposition in one  vacuum process chamber.

                                                                系統構成                                                                                                                                      刻蝕圖例

                                                                   


    應用領域

    1. Semiconductor   2. Nanotechnology  3. Photonics  4. Spintronics

    適應的刻蝕材料

    1. Noble Metals ;

    2. Insulators

    3. Diamond Films             

    4. Optical Wave Guides 

    5. Superconducting Materials              

    6. Magnetic Materials 

    工藝能力

    1. Ion Beam Etching (IBE)  

    2. Reactive Ion Beam Etching (RIBE) 

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