硅基電極/叉指電極/柔性電極/深硅刻蝕/光電子、微電子器件設計等微納加工
來源:
|
作者:北京特博文宣部
|
發布時間: 2012-02-19
|
2244 次瀏覽
|
分享到:
金屬電極/光學鍍膜/刻蝕/光電子、微電子器件設計
1.勻膠工藝
|
可以提供正膠或負膠的薄膠/厚膠的涂膠工藝;
|
2.紫外光刻工藝
|
周期性光柵,最小線寬2微米;高寬比可以達到20;
|
3.刻蝕工藝
|
深硅刻蝕;二氧化硅刻蝕;金屬刻蝕等;
|
4.電子束光刻
|
納米電極,納米結構的制備工藝;
|
5.鍍膜
|
1)金屬鍍膜: 磁控濺射、離子束濺射、熱蒸發:金、鉑、銀、銅、鈦、鉻、鎳等;
2)鈍化膜: 氧化膜(濕氧、干氧、干濕結合、高壓氧化、PECVD);氮化膜(LPCVD、PECVD);
3)光學膜: 反射膜、增透膜;
|
6.電鍍或電鑄工藝
|
提供金屬模具的制備
|
7.切割服務
|
激光切割及隱形切割、穿孔,按圖紙加工各種形狀;
|
8.加工服務
|
研磨+拋光+腐蝕+鍵合+切割+減薄+光刻+涂層+外延+離子注入服務等。
|
9.微納光子器件制備
|
包括:
1)高精度EBL曝光和刻蝕工藝,可加工高質量納米光子器件。(加工線寬低達30nm)
2)成熟的基于SU8聚合物材料的光子器件加工能力。(加工線寬低達2um)
3)成熟的氮化硅光子器件加工能力。(加工線寬可達2um)
4)以上器件均可制備配套的金屬電極等。
|
|